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该系列设备主要集中频磁控溅射、电弧离子蒸发和离子源及脉冲偏压结合等技术为一体,实行全自动化控制。此设备广泛应用于表带、表壳、手机壳、五金、餐具等工件上镀制 TiN,TiC,TiCN、TiAIN,CrN,Cu,Au,Al2O3等各种装饰膜层。
参数说明:
型号 | JTL-1090 | JTL-1110 | JTL-1312 | JTL-1613 |
真空室尺寸 | Φ 1000Χ900mm | Φ 1100Χ1000mm | Φ 1300Χ1200 mm | Φ 1600Χ1300 mm |
镀膜方式及主要配置 |
3个电弧+平面矩形阴极2对 | 6个电弧+圆柱阴极2对+平面矩形阴极1对 | 6个电弧+圆柱阴极4对+平面矩形阴极1对 | 8个电弧+圆柱阴极8对+平面矩形阴极1对 |
镀膜种类 |
金属膜,介质膜,化合物膜,反应膜,多功能层次膜 | |||
电源 |
电弧电源,真空磁控电源,中频磁控电源,脉冲偏压电源,离子源电源 | |||
真空室结构 |
立式前(单)开门,后置抽气系统,双层水冷 | |||
真空系统组成 |
分子泵(扩散泵)+罗茨泵+机械泵 | |||
极限真空 |
8.0Χ10-4 | |||
抽气时间 |
大气抽至3Χ10-3Pa≤15min | |||
工件运动方式 |
公 /自转,变频调速 | |||
工件烘烤温度 |
常温到 350oC可调可控 | |||
控制方式 |
全自动化控制 PC+PLC/PC+HMI | |||
备注 |
该设备可按客户产品及特殊工艺要求订做 |
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